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SupaSpun II

Cartouche Absolu Profondeur

SupaSpun II

04PP

Les cartouches SupaSpun II à seuil absolu représentent la dernière génération de nos cartouches à seuil absolu profondeur.

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Ces cartouches à haute performance offrent une haute capacité de rétention ainsi qu’une très faible perte de charge résultant du contrôle strict de la fabrication des fibres matrice. Les fibres de la cartouche SupaSpun II sont thermosoudées en continue sur l’âme centrale.

Le diamètre des fibres est contrôlé afin de fabriquer plusieurs grades de filtration. Toutes les couches sont inter-lièes afin d’assurer un volume de vide maximal tout en augmentant la densité de fibres, ce qui procure une véritable filtration en profondeur.

MATERIAUX

  • Média filtrant : Polypropylène
  • Embouts : polypropylène, renforcé FDV
  • Cage/Ame : polypropylène, nylon, inox, renforcé FDV
  • Joints : Buna, EPDM, FEP/silicone, FEP/viton, Silicone, Viton

CARACTERISTIQUES DE FILTRATION

  • Seuils de filtration disponibles : de 0,3 µmà 180 µm
  • Efficacité de filtration : absolue (> 99,98%) 

DIMENSIONS

  • Configuration d'embouts : tous les standards internationaux disponibles
  • Longueurs : du 5'' au 60''
  • Diamètre externe : 64 mm

CONDITIONS OPERATOIRES

  • Température de service : jusqu'à 80°C en continu
  • Pression différentielle maxi : 4 Bar & 20°C

INFORMATIONS BIOLOGIQUES

  • Stérilisation & Sanitisation : Vapeur 121 °C pendant 60 min (240 cycles), 135°C pendant 30 mn (8 cycles) -  Eau Chaude : 90°C pendant 30 mn

SUIVI QUALITE

  • Traçabilité complète par n° de lot
  • Certificat de conformité individuel (option)

  • Eau minérale, Bière, Vin, Clarification
  • Solvant, eau de process
  • Polymères, Acides, Bases, Solvants
  • Alcool, huiles essentiels
  • Bains, Solutions de nettoyage, Peintures, Résines, Vernis
  • Protection Osmose Inverse, Protection UV, Rétention Cryptosporidium
  • Liquide de refroidissement, cataphorèse, coating
  • Amine, Solutions glycolées, Injection d'eau, Protection des membranes
  • Eau purifiée, Résines photosensibles, Acides, Solutions de gravure

Autres filtres/corps de filtres